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          PRODUCT CENTER

          產(chan)品中(zhong)心

          四維(wei)磁(ci)共(gong)振(zhen)體(ti)成分(fen)分(fen)析儀
          產(chan)品簡介:

          HT-MRSI-20四維(wei)磁(ci)共(gong)振(zhen)體(ti)成分(fen)分(fen)析儀采(cai)用高均(jun)勻(yun)度(du)磁場(chang)系統(全(quan)成像空間(jian)均(jun)勻(yun)度(du) 0.5ppm )不但(dan)采用了(le)低(di)階(jie)勻(yun)場(chang)( X 、 Y 、 Z )同時加(jia)入(ru) R2 、 X2-Y2 、 X3 、 Y3 、 Z3 等高(gao)階(jie)勻(yun)場(chang)。磁場(chang)控制采(cai)用氘外鎖場(chang),確保磁(ci)場(chang)的穩定(ding)性(xing)以(yi)便於長期采(cai)集四維(wei)數(shu)據(穩定(ding)性(xing) 10Hz/Month ),同時降低(di)對(dui)環境的要求(環境溫度(du) 10-35 度(du)可(ke)以(yi)進(jin)行(xing)高(gao)精(jing)度(du)工作)。

          產(chan)品型(xing)號:HT-MRSI-20

          更新(xin)時(shi)間:2025-04-29

          廠(chang)商性(xing)質(zhi):生(sheng)產(chan)廠家(jia)

          訪問量:2823

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          HT-MRSI-20四維(wei)磁(ci)共(gong)振(zhen)體(ti)成分(fen)分(fen)析儀采(cai)用高均(jun)勻(yun)度(du)磁場(chang)系統(全(quan)成像空間(jian)均(jun)勻(yun)度(du) 0.5ppm )不但(dan)采用了(le)低(di)階(jie)勻(yun)場(chang)( X 、 Y 、 Z )同時加(jia)入(ru) R2 、 X2-Y2 、 X3 、 Y3 、 Z3 等高(gao)階(jie)勻(yun)場(chang)。磁場(chang)控制采(cai)用氘外鎖場(chang),確保磁(ci)場(chang)的穩定(ding)性(xing)以(yi)便於長期采(cai)集四維(wei)數(shu)據(穩定(ding)性(xing) 10Hz/Month ),同時降低(di)對(dui)環境的要求(環境溫度(du) 10-35 度(du)可(ke)以(yi)進(jin)行(xing)高(gao)精(jing)度(du)工作)。處理計算機采(cai)用工作站實(shi)現(xian)大(da)型數(shu)據處理能(neng)力(li)。提供(gong) 20 種脈沖(chong)序列,用戶可(ke)以(yi)任意(yi)編輯脈沖(chong)序列。采用高線性(xing)梯度(du)線圈( 98% )圖(tu)像畸變(bian)度(du)小(<1% )。適合(he)植(zhi)物、動(dong)物的科研工作。
          HT-MRSI-20四維(wei)磁(ci)共(gong)振(zhen)體(ti)成分(fen)分(fen)析儀功(gong)能(neng):
          1 .四維(wei)核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)成像:三維(wei)空間(jian)成像和壹維(wei)化(hua)學(xue)位(wei)移譜成像
          2 .二維(wei)核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)成像: SE 序列的空間(jian)頻(pin)率編(bian)碼(ma)和(he)相(xiang)位(wei)編碼(ma),包(bao)括(kuo)T 1 加(jia)權(quan)圖和(he) T 2 加(jia)權(quan)圖
          3 . IR 脈沖(chong)成像序列:偽(wei)彩色實(shi)虛(xu)部(bu)二維(wei)成像
          4 . Dixon 化學(xue)位(wei)移成像:成純水圖(tu),純脂肪圖(tu)
          5 . GE 脈沖(chong)序列二維(wei)成像
          6 . EPI 脈沖(chong)序列快速成像
          HT-MRSI-20四維(wei)磁(ci)共(gong)振(zhen)體(ti) 成分(fen)分(fen)析儀功(gong)能(neng):
          1. 化學(xue)位(wei)移成像 (CSI 或(huo) MRSI) 。(譜成像,zui高四維(wei) 64*64*64*64 ,三(san)維(wei) 256*256*64 )
          2. EPI 快速成像。
          3. 四象限成像(相(xiang)位(wei)圖像)。
          4. IR 序列加(jia)權(quan)成像(四象限圖(tu))。
          5. 磁(ci)化(hua)率成像。
          6. Dioxn 序列油(you)水分(fen)離(li)序列。
          基礎(chu)功(gong)能(neng):
          三維(wei)空間(jian)成像 (128*128*128)
          SE 序列(自旋回(hui)波(bo)序列)成像包括(kuo) T1 加(jia)權(quan)圖 T2 加(jia)權(quan)圖 T1mapping T2mapping 等(deng)。
          GE 序列(梯度(du)回(hui)波(bo)序列)。
          教學(xue)功(gong)能(neng):
          1. 壹維(wei)核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)成像。
          2. 自旋回(hui)波(bo)測量 T2 。
          3. 反(fan)轉(zhuan)恢復測量 T1 。
          HT-MRSI-20四維(wei)核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)譜成像性(xing)能(neng)指(zhi)標:
          1 .四維(wei)成像功能(neng): 64*64*64*64
          2 .磁場(chang)強(qiang)度(du): 0.44-0.46T
          3 . H 共振(zhen)頻(pin)率: 18-20MHz
          4 .樣品(pin)尺(chi)寸(cun):直(zhi)徑 25mm (三(san)維(wei)成像), 20mm (四維(wei)成像)
          5 .磁場(chang)均(jun)勻(yun)度(du):<0.8ppm, 20mm 空間(jian)
          6 .溫控穩(wen)定度(du): 0.06K/h, 開機後(hou)兩(liang)小時
          7 .信(xin)噪比: 55dB
          8 .圖像畸變(bian)度(du):<1%
          9 .圖形(xing)分(fen)辨(bian)率:普(pu)通(tong)模式(shi) 128*128*128( 三(san)維(wei) ) , 256*256( 二維(wei) )
          高(gao)分(fen)辨(bian)模式(shi) 512*512( 二維(wei) )
          HT-MRSI-20四維(wei)核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)譜成像儀器特(te)點:
          1 .采用鈷系低(di)溫度(du)系數(shu)磁鋼(gang)及恒(heng)溫(wen)控制器所以(yi)磁場(chang)穩定(ding)
          2 .磁體(ti)采用亞微(wei)米精(jing)度(du)加(jia)工(gong)技(ji)術(shu)所以(yi)磁場(chang)均(jun)勻(yun)度(du)*
          3 .由於(yu)射(she)頻(pin)電路采(cai)用 DDS 技(ji)術(shu)所以(yi)工作頻(pin)率可(ke)以(yi)在保證高(gao)穩定度(du)的前提(ti)下(xia)大範圍 (10-20MHz) 高分(fen)辨(bian)率 (1Hz) 調(tiao)節
          4 .采(cai)用正交(jiao)檢(jian)波技(ji)術(shu)能(neng)精確的測量(liang)射(she)頻(pin)相(xiang)位(wei),這有利於物(wu)理理論工(gong)作(zuo)者了(le)解(jie)量(liang)子(zi)力(li)
          四維(wei)磁(ci)共(gong)振(zhen)體(ti)成分(fen)分(fen)析儀
          HT-MRSI-20四維(wei)磁(ci)共(gong)振(zhen)體(ti) 成分(fen)分(fen)析儀成像實驗(yan)內(nei)容:
          1. 四維(wei)核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)成像:三維(wei)空間(jian)成像和壹維(wei)化(hua)學(xue)位(wei)移譜成像;
          2. 二維(wei)核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)成像: SE 序列的空間(jian)頻(pin)率編(bian)碼(ma)和(he)相(xiang)位(wei)編碼(ma),包(bao)括(kuo) T1 加(jia)權(quan)圖和(he) T2 加(jia)權(quan)圖
          3. GE 脈沖(chong)序列二維(wei)成像;
          4. EPI 脈沖(chong)序列快速成像;
          5. IR 脈沖(chong)成像序列:偽(wei)彩色實(shi)虛(xu)部(bu)二維(wei)成像;
          6. Dioxn 序列油(you)水分(fen)離(li)( Dixon 化學(xue)位(wei)移成像:成純水圖(tu),純脂肪圖(tu));
          7. 4D 傅裏葉變(bian)換(huan) SE 序列 ;
          8. 回(hui)波(bo)時間編(bian)碼(ma)譜成像( ETE );
          9. 回(hui)波(bo)平面(mian)成像。
          10. 其他(ta)內(nei)容:
          ( 1 )可(ke)進(jin)行(xing)核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)成像原理性(xing)實(shi)驗(yan)、成像技(ji)術(shu)實驗(yan)、硬(ying)件(jian)結(jie)構(gou)實驗(yan)和(he)應(ying)用拓展實驗(yan)。
          ( 2 )核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)影(ying)像基礎(chu)實(shi)驗(yan) , 核(he)磁(ci)共(gong)振(zhen)影(ying)像提高(gao)及(ji)偽(wei)影(ying)實(shi)驗(yan),自(zi)旋回(hui)波(bo)序列各(ge)種(zhong)參數(shu)對(dui)成像效(xiao)果(guo)的影響(xiang)。
          ( 3 )偽(wei)影(ying)觀(guan)察(cha) a. 折疊偽(wei)影(ying)觀(guan)察(cha) b. 拉(la)鏈(lian)偽(wei)影(ying)觀(guan)察(cha) c. 化學(xue)位(wei)移偽(wei)影(ying)觀(guan)察(cha)  學(xue)能(neng)級(ji)躍遷機理 ( 核磁(ci)共(gong)振(zhen)態密度(du)理論 )。

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